複数の研磨剤に対応する研磨スラリー
ナルコ ウォーターは、高品質で効果的な電子研磨用コロイダルシリカ研磨剤の業界リーダーです。CMP およびプライムウエハー研磨用の包括的な製品ラインに加えて、サファイア基板やハードディスク研磨など、さまざまな研磨用途向けのコロイダルシリカを提供しています。
サファイア基板研磨用コロイダルシリカ
サファイアには、高度な半導体およびマイクロエレクトロニクスデバイスの基板として、安定性や光透過性などいくつかの重要な利点があります。ただし、サファイア基材は、硬度が非常に高く、衝撃強度が低いため、加工が困難な場合があります。
ナルコ ウォーターは、サファイア基板の研磨に適した品質、均一性、制御性を提供するコロイダルシリカ製品を開発しました。
ハードディスク研磨用コロイダルシリカ
コロイダルシリカは、超平滑で欠陥のない表面を作るのに役立つため、ハードディスク研磨に最適な研磨剤です。当社で電子研磨に携わる研究開発・エンジニアリングチームは、コロイダルシリカ製品がハードディスクドライブの製造に最適かつ効果的であるようひたむきに取り組んでいます。
電子研磨製品のカスタム開発
当社の経験豊富な専任の研究開発・エンジニアリングチームが、シリカゾル製品をカスタム開発し、特定のビジネスニーズやプロセスに合わせたソリューションをご提供します。当社は、以下のような広範囲の製品群を設計します:
- 粒度
- 粒度分布
- 安定化カチオン
- 濃度
- pH
- パッケージタイプ
- 温度条件
- 分類
ナトリウム安定化コロイダルシリカ製品
- サイズ (nm):80
- 面積 (m2/gm):40
- 固形分 (%):40
- pH:8.5
- 電荷:負
- サイズ (nm):105
- 面積 (m2/gm):30
- 固形分 (%):47
- pH:10
- 電荷:負
- サイズ (nm):60
- pH:8.5
- 安定化:Na+
- SL:1 年
- サイズ (nm):幅広い分布
- pH:11
- 安定化:Na+
- サイズ (nm):4-120(設計可能)
- 面積 (m2 / gm:25~750
- 固形分 (%):15~50
- pH:2~10.5
- 安定化:NH4、NA+、K+