Prime Wafer

プライムウエハー研磨スラリー

ナルコ ウォーターは、数十年にわたってウエハー業界にコロイダルシリカを供給してきました。その包括的かつ幅広い専門知識により、業界最高品質のシリコン研磨スラリーを製造しています。 

当社の安定性の高いコロイダルシリカ製品は、卓越した純度、精密に管理された粒径、粒度分布、形態が特徴で、プライムウエハーの研磨プロセスで最適な性能を発揮します。

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ウエハー研磨スラリーの設計：

Shield with checkmark

高い除去速度

 

Gears with arrows

安定した性能

 

Arrow pointed down in circle.

低い欠陥率

 

Disinfection Icon
優れた表面仕上げと平面性


シリコンウエハー研磨用のすぐに使えるコロイダルシリカ スラリー

  • サイズ (nm)：60 
  • pH：11 
  • 安定化：Na+

  • サイズ (nm)：60 
  • pH：8.5 
  • 安定化：Na+

  • サイズ (nm)：85 
  • pH：11～12 
  • 安定化：NH4 
  • 注：キレート添加剤

  • サイズ (nm)：85 
  • pH：11～12 
  • 安定化：NH4 
  • 注：高い Si 除去速度。危険物。

  • サイズ (nm)：120
  • 面積（m2/g）：25
  • 固形分 (%)：47
  • pH：9～10
  • 安定剤：K+

Chemical Mechanical Planarization

複数の研磨用途に対応

当社のコロイダルシリカ系研磨スラリーは、シリコンウエハーやその他のマイクロチップ用半導体基板を製造する際の、ストック研磨、エッジ研磨、最終研磨の工程に広く使用されています。

こうしたスラリーはまた、視力・光学関連用品、腕時計クリスタル、その他のガラス部品の高精度表面仕上げにも使用さらます。

研磨用ナノ粒子

CMP スラリーフォーミュレーターのニーズに応えるイノベーション

ナルコ ウォーターは、CMP スラリーフォーミュレーターのニーズに応える高純度で革新的なナノ粒子を提供するため、コロイダルシリカ製造サービスのラインアップを調整しました。

  • 超高純度水ガラス系ナノ粒子
  • 多様な粒子サイズ、粒度分布、粒子濃度
  • 工学的安定設計で幅広い pH 値に対応
  • リサーチ徹底型の協力体制
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ナルコ ウォーターはコロイダルシリカのリーダーです

  • 1941年に初めてコロイダルシリカ製造プロセスの特許を取得
  • 世界最大級のコロイダルシリカメーカー
  • カスタム製品開発のための革新的な製品開発・エンジニアリングチーム
  • 製造の効率、品質、管理を重視して設計された製品
  • 革新的な粒子設計と品質サポートで高い価値を提供

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参考文献

  1. 製品は、金属を除去するために LMSII エンジニアリングアプローチを使用して製造。[Cu] と [Ni] は 20 ppb 未満。納期は数量によって異なります。↵